利用 SPV/Kelvin 进行电气和光学鉴定

图1展示了一个利用SPV对双面抛光高电阻率浮区法硅片抛光工艺进行表征的示例。图中的红色区域清楚地表明，CMP抛光工艺尚未达到最优状态，甚至在图中还能清晰地看到处理设备的痕迹（左下图）。