研究光催化材料（BiVO4）

目的

诸如BiVO₄等光催化材料备受关注，例如在水分解领域。电子缺陷态和表面钝化是重要的限制因素。光催化材料可作为粉末、多孔层或薄膜使用，这使得对这类材料进行简单且非接触式的光电表征仍然具有挑战性。

解决方案

直流（开尔文探针，接触电位差测量：DCPD）和交流（调制）模式下的SPV光谱学是一种非接触且高度敏感的方法，能够检测粉末、多孔和薄膜样品在缺陷态激发下与电荷分离相关的极微弱SPV信号[1]。

应用示例

图 1 展示了 BiVO₄ 薄膜、多孔层和粉末的调制 SPV 振幅光谱（另见 [2]）。BiVO₄ 的带隙起始点（2.5 eV）、指数尾部的能量参数以及与缺陷相关的跃迁均可被准确测定。 图2显示了在有和没有钝化磷酸钴（Co-Pi）共催化剂的情况下，用V₁₃O₁₅修饰的多孔BiVO₄层的DCPD光谱（另见[3]）。

参考资料

[1] Th. Dittrich, S. Fengler, 《光活性材料的表面光电压分析》，世界科学出版社，2020年。

[2] S. Fengler 等，《基于表面光电压技术对 BiVO₄ 粉末及冷气喷镀层的表征》，《催化今日》321 (2019) 34。

[3] H. Ren 等，《通过铋钒酸盐光电化学催化剂上修饰的金属V₁₃O₁₆调控电荷传输》，《先进材料》(2019) 1807204。