目标

高掺杂半导体中测量电阻率至关重要,主要体现在以下几个方面:

  • 质量控制与掺杂浓度验证

  • 器件性能预判

  • 提取迁移率、载流子浓度等材料参数

  • 工艺开发(如离子注入)及掺杂模型的模拟

  • 检测污染、工艺漂移、不均匀性及缺陷(如SiC中的生长小面)

  • 用于 SiC 的激光切割工艺

因此,对于先进半导体应用而言,测量的精度与重复性至关重要。

解决方案

Freiberg Instruments 的 RESmap 可对各类高掺杂材料(Si、SiC 等)实现高精度Mapping,测量范围覆盖 1~100 mΩ·cm。得益于内置的距离传感器、温度传感器以及高灵敏测量探头,其重复性表现卓越(σ < 0.15%)。这款紧凑型测量探头不仅可作为手持工具使用,还支持配备机械手实现全自动化,亦可直接集成至生产线。

应用实例

图1展示了SiC原生晶圆的电阻率Mapping示例,边缘剔除约为5mm。

众所周知,电阻率的测量值不仅受样品温度影响,也与环境温度密切相关。因此,测量探头内集成了两个温度传感器。图2展示了在厚SiC晶锭(>1mm)上进行的1000次重复测量结果。 每次测量后探头返回初始位置,整个过程耗时约6小时。在此期间环境温度发生了变化,该测试很好地验证了温度补偿算法的有效性。采用此温度补偿算法,重复性 σ<0.15%。


在碳化硅(SiC)冷激光切割工艺中,晶体取向同样至关重要。Freiberg Instruments提供一系列快速、精准的晶体取向测量方案,可根据您的工艺需求灵活定制。敬请关注我们的XRD解决方案。


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