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使现有设备能够达到 200 毫米和 300 毫米铸锭的高端外径/缺口规格
使现有设备达到高端外径/缺口规格
真正符合晶圆厂要求的在线晶圆方向映射
用于超快晶体定向、生产中的晶体对准、质量控制、摇摆曲线测量、材料研究等
超快、底面测量晶体取向的紧凑型封装
超快顶面测量晶体取向,采用紧凑型封装
全自动在线定位和处理铸锭、铸锭块和铸锭球
Fully automated wafer, seed wafer and boule quality control and…
石英棒、晶片和坯料的生产与质量控制
该产品即将推出
高精度电阻率Mapping系统 精准实现材料分析
超越极限的精度:面向电阻率测量的下一代太赫兹Mapping技术
精确的终生特征描述,卓越的灵敏度
快速简便的寿命测量变得简单易行
多功能 OEM 设备,用于测量硅样品(从硅砖到加工晶片)的使用寿命
用于半导体质量控制和材料研发的先进寿命测量系统
先进的单晶硅锭、硅砖和硅片质量控制解决方案
用于先进材料分析的温度相关寿命测量系统
用于精确材料表征的高分辨率、随温度变化的寿命测量系统
用于材料深度分析的先进高温寿命测量系统
通过热释电效应确定晶体表面极性的移动系统
高分辨率、高灵敏度的表面光电电压测量解决方案
可变能量激励源
专为集成到手套箱中而设计,可加热至 100°C,高分辨率,灵敏的表面电压测量
宽范围双棱镜单色仪
专为智能生产环境设计的 GWh 级电池化成和测试
利用智能测量驱动的过程控制进行中试规模的电池化成和测试
集成传感和先进的充电控制,实现智能化、测量驱动的电池组装
双面 PERC/PERC+、HIT、Topcon、晶体硅太阳能电池、迷你模块等的质量控制解决方案
最灵敏的 TL/OSL 读取器
最先进的 TL/OSL 阅读器
便携式 OSL 读取器,设计用于高效读取和*擦除兼容的剂量计
最先进的个人剂量测定 OSL 系统
Freiberg Instruments 的现代 TLD 阅读器
即使在极端条件下也能进行高精度吸附测量的磁悬浮天平
用于聚合物和半导体分拣的全自动高灵敏度拉曼传感器
辐射污染监测仪
用于测量集装箱的空间分辨探测杆
高量程剂量率仪
配备 50 毫米 PIPS 检测器的便携式设备;符合 ISO 11929 标准的浓度计算方法
伽马辐射监测仪
应用于高掺杂半导体
在高掺杂半导体中测量电阻率至关重要,主要体现在以下几个方面:
质量控制与掺杂浓度验证
器件性能预判
提取迁移率、载流子浓度等材料参数
工艺开发(如离子注入)及掺杂模型的模拟
检测污染、工艺漂移、不均匀性及缺陷(如SiC中的生长小面)
用于 SiC 的激光切割工艺
因此,对于先进半导体应用而言,测量的精度与重复性至关重要。
Freiberg Instruments 的 RESmap 可对各类高掺杂材料(Si、SiC 等)实现高精度Mapping,测量范围覆盖 1~100 mΩ·cm。得益于内置的距离传感器、温度传感器以及高灵敏测量探头,其重复性表现卓越(σ < 0.15%)。这款紧凑型测量探头不仅可作为手持工具使用,还支持配备机械手实现全自动化,亦可直接集成至生产线。
图1展示了SiC原生晶圆的电阻率Mapping示例,边缘剔除约为5mm。
众所周知,电阻率的测量值不仅受样品温度影响,也与环境温度密切相关。因此,测量探头内集成了两个温度传感器。图2展示了在厚SiC晶锭(>1mm)上进行的1000次重复测量结果。 每次测量后探头返回初始位置,整个过程耗时约6小时。在此期间环境温度发生了变化,该测试很好地验证了温度补偿算法的有效性。采用此温度补偿算法,重复性 σ<0.15%。
图1:SiC晶圆电阻率Mapping图示例
在碳化硅(SiC)冷激光切割工艺中,晶体取向同样至关重要。Freiberg Instruments提供一系列快速、精准的晶体取向测量方案,可根据您的工艺需求灵活定制。敬请关注我们的XRD解决方案。
图2:1000次重复测量,每次测试后探头回归初始位置,有温度补偿σ < 0.15%与无温度补偿σ < 0.21%
图 3:6 英寸晶棒进行 5mm 间距全域扫描,分多日、不同时段共计测试 18 次,σ=0.15%。
图 4:动态温度漂移测试--将样品置于低温区域,在其升温过程中完成检测,实验时长约 10 分钟。
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