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Système de cartographie de haute précision basé sur la spectroscopie THz dans le domaine temporel conçu pour les couches épitaxiales sur des matériaux fortement dopés

  • Non-destructif et sans contact

  • Optimisé pour les couches minces sur des substrats fortement dopés

  • Résolution spatiale élevée de 1 mm

Matériaux

THzmap est spécialisé dans les matériaux fortement dopés.

Si SiC GaN

Fonctionnalités et avantages

Sigma < 1 %

Très bonne répétabilité

± 5 %

Précision en fonction de l&#x27;épaisseur

Débit
> 5 plaquettes

par heure

3 mm

Exclusion des bords

3 mm

Exclusion des bords

Dans la fabrication des semi-conducteurs, la différence entre des performances optimales et une défaillance se joue à l'échelle du micromètre. Notre tout dernier système de cartographie, basé sur la spectroscopie terahertz dans le domaine temporel (THz-TDS), marque une avancée majeure en matière de caractérisation – spécialement conçu pour les couches épitaxiales sur des substrats complexes et fortement dopés.

Dépasser la limite de conductivité

Les méthodes optiques et à courants de Foucault traditionnelles sont souvent confrontées à des difficultés en raison de la forte absorption et de la conductivité élevée des substrats fortement dopés. Notre technologie THz-TDS utilise la mesure en mode réflexion pour contourner ces limites, permettant ainsi une analyse ultra-précise des couches épitaxiales là où les systèmes basés sur la transmission échouent.

Effectuez des mesures sans aucun risque de contamination de surface ou de dommages mécaniques sur vos plaquettes. Visualisez l'homogénéité électrique sur l'ensemble de la plaquette avec des résolutions spatiales allant jusqu'à 1 mm, identifiant ainsi les dérives de processus avant qu'elles n'affectent le rendement. Remplacez les méthodes lentes et destructives telles que le Mercury-CV ou le SIMS par une solution THz rapide et compatible avec les lignes de production.

Notre système de cartographie THz-TDS fournit les données essentielles nécessaires pour optimiser les performances des réacteurs, minimiser les rebuts et garantir la fiabilité des composants électroniques de puissance et RF.
 

Dans la fabrication de semi-conducteurs, la différence entre des performances optimales et une défaillance se joue à l'échelle du micromètre. Notre tout dernier système de cartographie, basé sur la spectroscopie terahertz dans le domaine temporel (THz-TDS), constitue une avancée majeure en matière de caractérisation – spécialement conçu pour les couches épitaxiales sur des substrats complexes et fortement dopés.

  • Pour les échantillons massifs : 0,1 à 100 ohm cm

  • Pour les couches épitaxiales : 8 × 10¹ cm⁻³ à 4 × 10¹⁸ cm⁻³

THzmap permet de mesurer l'incommensurable - la résistance d'épi précise sur des substrats fortement dopés.

Dr. Nadine Schüler
Chef de la recherche et du développement

Intéressé ? Nos experts sont heureux de vous aider.

Spécifications

Paramètre mesuréRésistivité / densité de dopage
Principe de mesureSpectroscopie terahertz dans le domaine temporel (THz-TDS) sans contact et non destructive
RésultatCartes complètes de la plaquette
Résolution1 mm
Durée de mesure20 min pour une plaquette de 12 pouces
Alimentation100 250 V (± 10), 5 A, monophasé
Dimensions (l × h × p)670 × 490 × 810 mm
Taille minimale de l'échantillon10 × 10 mm
Taille maximale de l'échantillonPlaquettes jusqu'à 150 mm de diamètre
(plus grandes sur demande)
Épaisseur de l'échantillon
  • > 10 µm pour les couches épitaxiales
  • Jusqu'à 1 mm pour les échantillons massifs

Soutenu par

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Accessoires et options

  • Possibilité d'automatiser la manipulation des échantillons

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