ホウ素-酸素複合体は、試料に光を照射することで活性化され、200 °Cで数分間加熱することで不活性化される。この手法は鉄の定量と同様に利用でき、欠陥複合体の活性化および不活性化の前後における寿命測定を通じて、相対的なホウ素-酸素密度を測定することができる。
ホウ素-酸素濃度は以下の式によって決定される：
\([BO_{2}] = C_{BO}(\Delta n) \cdot (\cfrac{1}{\tau_{BO}} - \cfrac{1}{\tau_{FeB}})\)
ホウ素-酸素の測定には、注入量およびドーピング濃度に依存する校正係数 CBO が用いられる。MDPmap および加熱試料ステージを使用することで、多結晶（mc-Si）および単結晶（mono-Si）のホウ素-酸素濃度を高分解能で測定することが可能である。
関連ソリューションおよび業界: エピタキシャル層と薄膜
