• 光キャリアの生成と分離メカニズム

  • 少数キャリアの寿命測定/拡散長の計算

  • トラップキャリアのダイナミクス(時間分解)

  • 表面光起電力測定

図1は、両面研磨された高抵抗フロートゾーンシリコンウェハの研磨プロセスの特性評価にSPVを用いた例を示している。プロット上の赤色の領域からは、CMP研磨プロセスが最適ではないことがはっきりと見て取れ、さらにハンドリング装置による痕跡さえもプロット上に明確に確認できる(左下)。 


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